在精密光学检测和加工设备方面开展了大面积高精度光刻设备的研究实验室与国际著名企业合作研制成功分辨率为1微米的12英寸硅片一次曝光镜头，填补了国内空白并达到国际先进水平。
实验室所依托的浙江大学光学工程学科在近几年的全国学科评比中也取得了很好的成绩。在全国一级学科评比中，2002年获得全国第四名、2004年获得全国第二名、2006年获得全国第一、2007年在全国研究生院一级学科评比中获得第一名、浙江大学光学工程博士后流动站被评为2005年全国优秀博士后流动站。2004年浙江大学光电系成功举办了二十年来规模最大的全国光学大会，国内外共1300多人参加了大会，被时任中国光学学会理事长的母国光先生誉为“群贤毕至”开创了中国光学学会成功举办大型年会的先例。国际学术交流活跃，近年来每年都承办国际学术会议，有多名教授在相关研究领域的国际会议上担任共主席。
交流合作
作为我国最主要的光学工程领域科学研究与人才培养的基地，近年来实验室与日本NEC、滨松光子、美国PrecisionLens、JDSU等国际光学与信息企业进行了广泛的技术交流与合作，与浙江舜宇集团、浙江水晶光电、富通集团、宁波永新、上海嘉光、南阳利达等国内主要的光学产业集团进行产学研合作。支持了长三角地区诸多光学产业的发展，形成了长三角光学产业群。浙江舜宇集团已在香港上市，年产值达十亿元，成为国际上最重要的光学加工基地之一。
